レーザーテック：ACTIS’A150’発表：EUV Photomask欠陥検査装置（動画）：
Lasertec: ACTIS’A150 ’announced: EUV Photomask defect inspection system：
Lasertec：ACTIS’A150宣布：EUV光掩模缺陷检查系统
レーザーテック：ACTIS’A150’
【概 要】
レーザーテックは、EUV マスクのパターン検査に対応した欠陥検査装置 ACTIS「A1５0」を製品化いたしました。
同装置は 9 月１5 日から米国で開催されるフォトマスク技術に関する国際学会である SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2019 にて発表いたします。
【内 容】
レーザーテックは、1976 年に世界初の自動フォトマスク欠陥検査装置を開発。
マスク検査の分野で長い歴史と経験を持つ会社です。
現在販売中のマスク欠陥検査装置 MATRICS シリーズは、その優れた欠陥検出性能により、全世界のウェハファブやマスクショップにてご好評いただいております。
一方、デバイスパターンの微細化に伴い、次世代露光技術である EUV リソグラフィによる量産を開始。
当社は EUV マスクへのあらゆるご要求に対応するため、
- 2013 年に EUV マスク裏面検査/クリーニング装置「BASIC シリーズ」、
- 2017 年に EUV マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置 ABICS「E1２0」、
- 2018 年に EUV マスク欠陥検査装置 MATRICS「X8ULTRA シリーズ」
を製品化いたしました。
従来の製品：ウェハの歩留り率
EUV 光を用いたアクティニックパターン検査装置はこれまで製品化されていません。
ウェハの歩留り率の向上は､ EUV マスク製造インフラ構築上の課題となっていました。
今回の製品：ACTIS「A150」
今般当社がその製品化に成功したことで､この課題が克服されます。
EUV マスク欠陥検査装置 ACTIS「A150」は、長年培ったマスクパターン検査技術と EUV 光による検査技術を利用した世界初の EUV パターンマスク欠陥検査装置です。
波長の短い EUV 光を用いた検査方式を採用。
従来の DUV レーザーを用いたマスク検査機に比べ圧倒的に欠陥検出感度が高く、さらに EUV マスク特有の転写性位相欠陥の検出も可能です。
https://www.lasertec.co.jp/topics/upload_files/20190912JP.pdf