Lasertec：ACTIS'A150宣布：EUV光掩模缺陷检查系统

Lasertec：ACTIS’A150宣布：EUV光掩模缺陷检查系统

Lasertec：ACTIS’A150’

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Lasertec已将支持EUV掩模图案检查的ACTIS A1550缺陷检查系统商业化。

该设备将在9月15日在美国举行的SPIE光掩模技术+ EUV光刻技术国际会议上展出，该会议是关于光掩模技术的国际会议。

[内容]

Lasertec于1976年开发了世界上第一个自动光掩模缺陷检查系统。

一家在口罩检测领域具有悠久历史和经验的公司。

目前正在销售的MATRICS系列掩模缺陷检查系统因其出色的缺陷检测性能而受到世界各地的晶圆厂和掩模车间的好评。

另一方面，随着装置图案的小型化，下一代曝光技术EUV光刻开始批量生产。

为了满足对EUV口罩的所有要求，

2013年，EUV面罩背面检查/清洁设备“ BASIC系列”
2017年，EUV口罩毛坯缺陷检查/审查系统ABICS“ E120”，
2018年EUV口罩检测系统MATRICS“X8ULTRA series”
已商业化。

常规产品：晶圆良率

迄今为止，使用EUV光的光化图案检查设备尚未商业化。

提高晶圆的产量一直是建立EUV掩模制造基础设施的挑战。

该产品：ACTIS“ A150”

我们成功的商业化解决了这个问题。

EUV掩模缺陷检查系统ACTIS“ A150”是世界上第一个使用多年栽培的掩模图案检查技术和使用EUV灯的检查技术的EUV图案掩模缺陷检查系统。

使用的检查方法使用短波长的EUV光。

与使用DUV激光器的传统掩模检测机相比，缺陷检测灵敏度非常高，并且还可以检测EUV掩模特有的可转移相缺陷。