東大:水とアクリル板で原子レベルの平坦度実現(動画):  Tokyo Univ: Atomic level flatness achieved with water and acrylic plate: 东京大学:用水和亚克力板实现原子级平整度

東大:水とアクリル板で原子レベルの平坦度実現(動画): 
Tokyo Univ: Atomic level flatness achieved with water and acrylic plate:
东京大学:用水和亚克力板实现原子级平整度

ースゴい原子レベルの研磨技術ー

東京大学:

  • 水をかけながら、
  • アクリル板でシリコン基板を研磨し、
  • 原子レベルの平坦度を実現した。

薬液や研磨砥粒(とりゅう)を使わずに、表面粗さ0・037nmを達成した。

シリコン基板の研磨:

ランニングコストは水と装置の電気代のみ。

磨きと洗浄仕上げ処理に提案していく。

アクリル板で基板を研磨:

アクリル板を回転させ水をかけながら研磨対象を押しつける。

アクリル樹脂は加水分解して表面にカルボン酸が並ぶ。

これが化学研磨を起こしている。

実際の研磨性能:

実際にガラスで研磨した。

二乗平均平方根粗さ(RMS):

ガラス:
0・276nmから0・073nmに研磨できた。

シリコン:
0・134nmの基板を0・037nmに研磨できた。

新技術のメリット:

新技術は薬液や微粒子が残らない。

アクリル板は半永久的に使える。

利用分野

結晶表面の残留応力の緩和や、洗浄など仕上げ工程に提案する。

今後炭化ケイ素(SiC)に応用していく。

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