東大：水とアクリル板で原子レベルの平坦度実現（動画）：
Tokyo Univ: Atomic level flatness achieved with water and acrylic plate:
东京大学：用水和亚克力板实现原子级平整度
ースゴい原子レベルの研磨技術ー
東京大学：
- 水をかけながら、
- アクリル板でシリコン基板を研磨し、
- 原子レベルの平坦度を実現した。
薬液や研磨砥粒（とりゅう）を使わずに、表面粗さ０・０３７nmを達成した。
シリコン基板の研磨：
ランニングコストは水と装置の電気代のみ。
磨きと洗浄仕上げ処理に提案していく。
アクリル板で基板を研磨：
アクリル板を回転させ水をかけながら研磨対象を押しつける。
アクリル樹脂は加水分解して表面にカルボン酸が並ぶ。
これが化学研磨を起こしている。
実際の研磨性能：
実際にガラスで研磨した。
二乗平均平方根粗さ（ＲＭＳ）：
ガラス：
０・２７６nmから０・０７３nmに研磨できた。シリコン：
０・１３４nmの基板を０・０３７nmに研磨できた。新技術のメリット：
新技術は薬液や微粒子が残らない。
アクリル板は半永久的に使える。
利用分野
結晶表面の残留応力の緩和や、洗浄など仕上げ工程に提案する。
今後炭化ケイ素（ＳｉＣ）に応用していく。
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