东京大学：用水和亚克力板实现原子级平整度
惊人的原子级抛光技术
东京大学：
倒水的时候
用亚克力板抛光硅基板，然后
达到了原子水平的平整度。
在不使用化学品或磨粒的情况下获得了 0.037 nm 的表面粗糙度。
硅基板的抛光：
运行成本仅为设备的水电费。
我们将建议抛光和清洁完成处理。
用亚克力板打磨板子：
转动亚克力板，一边往上浇水一边按压待打磨物体。
丙烯酸树脂被水解，羧酸排列在表面上。
这导致化学抛光。
实际抛光性能：
它实际上是用玻璃抛光的。
均方根粗糙度 (RMS)：
玻璃：
可以从 0.276 nm 抛光到 0.073 nm。
硅：
0.334 nm 的衬底可以抛光到 0.037 nm。
新技术的好处：
新技术不会留下化学物质或细小颗粒。
亚克力板可以半永久使用。
使用领域
我们建议将其用于晶体表面残余应力的缓和和清洁等精加工工艺。
未来将应用于碳化硅（SiC）。
新开关