💡東京工業大学、ウエハー級品質の太陽電池用シリコン薄膜作製に成功
10倍以上の成長速度で、製造コストの大幅低減に期待
要点
従来の10倍以上の成長速度で太陽電池用高品質Si単結晶薄膜の形成に成功
ナノ表面粗さ制御技術により、結晶欠陥密度をシリコンウエハーレベルに低減
単結晶Si太陽電池の発電効率を維持し、コストを大幅低減可能な技術を開発
概要
東京工業大学 物質理工学院 応用化学系の伊原学教授、長谷川馨助教らは早稲田大学 理工学術院の野田優教授と共同で、結晶欠陥密度をシリコン（Si）ウエハーレベルまで低減した高品質単結晶Si薄膜を、これまでの10倍以上の成長速度で作製することに成功した。原理的に原料収率を100%近くに向上できるため、単結晶Si太陽電池の発電効率を維持したまま、製造コストを大幅に低減することが期待できる。
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