Semicon lithography equipment:露光面積が4倍！ meer dan vier keer het belichtingsgebied! Mehr als viermal so viel Belichtungsfläche! four times the exposure area! 四倍以上的曝光面積！
Category: Semi conductor
Imec：日本のRapidusと共同開発！ co-développé avec le japonais Rapidus! Gemeinsam mit Rapidus aus Japan entwickelt! Co-developed with Japan’s Rapidus! 與日本Rapidus共同開發！
Adamant Namiki：12-inchサファイア基板を開発！ substrat en saphir de 12 pouces! 12-Zoll-Saphirsubstrat! Developed a 12-inch sapphire substrate! 開發出 12 英寸藍寶石基板！
Samsung’s 3nm: 歩留率は20%で最悪！ le taux de rendement est le pire à 20 % ! Ausbeute mit 20% am schlechtesten! Yield rate is the worst at 20%! 三星3nm：良品率最差20%！