ＡＧＣ：露光用フォトマスクブランクス：供給体制大幅増強（動画）：
AGC to Make Drastic Expansion to Supply System for EUVL Mask Blanks：
AGC将大幅扩展EUVL面罩毛坯的供应系统
ＡＧＣ：
2003年「EUV露光技術を用いた半導体生産プロセス用消耗部材・フォトマスクブランクス」の研究開発に着手しました。
EUVマスクブランクスの生産：
自社で保有する
- ガラス材料技術、
- ガラス加工技術、
- コーティング技術、
融合し技術開発を進め、2017年にEUVマスクブランクスの生産を開始しました。
供給体制の増強：
これまで、市場のニーズに応じ、必要な投資を実施してきました。
今後、更なる市場の伸長に対応するため、今回供給体制の増強を決定。
唯一のEUVマスクブランクスメーカー：
ＡＧＣは「ガラス材料」から「コーティング」までを一貫生産できます。
世界で唯一のEUVマスクブランクスメーカーです。
2025年には売上高400 億円以上、シェア50％を目指します。
ニュース ｜ AGC
https://www.agc.com/news/detail/1201108_2148.html
AGC to Make Drastic Expansion to Supply System for EUVL Mask Blanks
AGC
began conducting R&D on photomask blanks to be used as a consumable part for semiconductor production using EUV lithography technology in 2003.
By combining its core technologies (i.e. glass materials, glass processing, and coatings),
it continued technological development of photomask blanks and began production of EUVL mask blanks in 2017.
AGC
has made necessary investments to meet market demand, and to respond to further expansion of the EUV lithography market,
As the world’s only manufacturer of the photomask blanks
has decided on this drastic expansion of the supply system for EUVL mask blanks.
As the world’s only manufacturer of the photomask blanks that can handle every aspect from glass materials to coating,
a global market share of 50% in 2025
AGC will establish a mass production system to meet growing market demand, with the aim of achieving target sales of 40 billion JPY or more and a global market share of 50% in 2025.
News ｜ AGC