EUV exposure technology: 光源プラズマ流の構造解明！ structure du flux plasma de la source lumineuse ! Struktur des Lichtquellen-Plasmaflusses! structure of the light source plasma flow! 闡明光源等離子流的結構！
Category: EUV
Export restrictions Japan, US, Netherlands: 中国向けの半分が消失！ la moitié des exportations vers la Chine ont disparu ! de helft van de export naar China is verdwenen! Half of exports to China have disappeared! 對華出口減半！
South Korea Semiconductor exports to China：急減へ！ vers la Chine chutent fortement! sollen stark einbrechen! to drop sharply! 韓國半導體對華出口：大幅下降！
Semicon lithography equipment:露光面積が4倍！ meer dan vier keer het belichtingsgebied! Mehr als viermal so viel Belichtungsfläche! four times the exposure area! 四倍以上的曝光面積！