Japan’s Semiconductor Export Control: 高性能製造装置を対象に! cibler les équipements à haute performance ! Ausrichtung auf leistungsstarke Fertigungsanlagen! Targeting High-Performance Equipment! 瞄準高性能製造設備!

SK Hynix: ナノインプリント露光装置を導入! Lancement de l’équipement d’exposition nanoimpression ! Einführung Nanoimprint-Belichtungsausrüstung! Introduced nanoimprint exposure equipment! 推出納米壓印曝光設備!

EUV, memory, Semi conductor, Diode

Rapidus:ヘテロジニアス・インテグレーションに着手! Se lancer dans l’intégration hétérogène ! Aufbruch in die heterogene Integration! Embarking on heterogeneous integration! Rapidus:著手異構集成!

EUV, Semi conductor, Diode

EUV exposure technology: 光源プラズマ流の構造解明! structure du flux plasma de la source lumineuse ! Struktur des Lichtquellen-Plasmaflusses! structure of the light source plasma flow! 闡明光源等離子流的結構!