Semiconductors at University of Tsukuba : 800℃で動作することを実証! Démonstration de fonctionnement à 800°C ! Demonstration des Betriebs bei 800°C! Demonstration of operation at 800°C! 筑波大學半導體:800°C 運行演示!

Semiconductors at University of Tsukuba : 800℃で動作することを実証!
Démonstration de fonctionnement à 800°C !
Demonstration des Betriebs bei 800°C!
Demonstration of operation at 800°C!
筑波大學半導體:800°C 運行演示!

ー900℃まで測定できる電気特性評価装置で証明ー

ー地下開発、鉄鋼、宇宙/航空産業などで活用ー

PC Watch掲載記事から、要約レポートをお届けします。

筑波大学の奥村宏典助教

筑波大学の半導体素子:

奥村宏典助教の研究チームが、「800℃を超える厳環境で、利用可能な半導体素子」を開発した。

シリコン半導体の限界:

シリコン半導体は、300℃で動作に異常をきたす。

そのため、地下資源掘削や宇宙探索、エンジン周辺部などに使えない。

300℃を超える環境で動作する半導体には、別の素子が求められている。

高温環境下での半導体動作:

絶縁体に近い材料を用いる必要がある。

窒化アルミニウム(AlN)結晶ダイオード:

すでに、「AlN結晶を使ったダイオードやトランジスタ」で、動作した報告例がある。

「AlN素子が高温体制に優れている」という理論もある。

しかし、電気特性を調べる装置には制約があり、「素子動作を実証できるのは500℃以下」に限られていた。

900℃まで測定できる電気特性評価装置:

この研究では、900℃まで測定できる電気特性評価装置を用いた。

優れた結晶品質を持つ独自のAlN試料でダイオードとトランジスタの制作と評価を行なった。

AlN試料の制作と評価結果:

この結果、「ダイオードは827℃、トランジスタは727℃での動作」に成功した。

またこの素子に対して、「ニッケル(Ni)電極は827℃でも、安定して利用できること」が分かった。

サファイア基板上にAlN層を使用:

サファイアは、大面積の試料を、低価格で入手できる。

サファイア基板上に、AlN層を用いている。

なるべく、シンプルな構造の素子で、耐熱性を実現した。

AlN素子の実用性:

AlN素子は実用性にも優れている。

本技術は、地下開発、鉄鋼、宇宙/航空産業への貢献が期待される。

https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1513288.html

Semiconducteurs à l’Université de Tsukuba : Démonstration de fonctionnement à 800°C !

– Éprouvé par un équipement d’évaluation des propriétés électriques capable de mesurer jusqu’à 900°C –

-Utilisé dans le développement souterrain, l’acier, l’industrie spatiale/aéronautique, etc.-

A partir de l’article publié dans PC Watch, nous vous livrerons un rapport de synthèse.

Halbleiter an der Universität Tsukuba: Demonstration des Betriebs bei 800°C!

– Bewährt durch Geräte zur Bewertung der elektrischen Eigenschaften, die bis zu 900 °C messen können –

-Wird in der Untergrundentwicklung, in der Stahl-, Raumfahrt-/Luftfahrtindustrie usw. verwendet.-

Aus dem in PC Watch veröffentlichten Artikel werden wir einen zusammenfassenden Bericht liefern.