Canon provides nanoimprint lithography manufacturing equipment to Toshiba Memory’s Yokkaichi Operations plant |
TOKYO, July 20, 2017—Canon Inc. announced today that the company has provided the FPA-1200NZ2C, semiconductor lithography equipment that utilizes nanoimprint lithography (NIL) technology which Canon has been continuously developing since 2004, to leading provider of semiconductor memory solutions Toshiba Memory Corporation’s Yokkaichi Operations plant. The provision of this equipment represents significant progress toward semiconductor device mass production that employs nanoimprint technology.Canon Global
http://global.canon/en/news/2017/20170720.html
キヤノン、ナノインプリント半導体製造装置を東芝メモリ 四日市工場に納入
キヤノンは、2004年より研究開発を進めているナノインプリント技術を用いた半導体製造装置“FPA-1200NZ2C”を、半導体メモリーのリーディングカンパニーである東芝メモリ株式会社（以下東芝メモリ）四日市工場に納入しました。これにより、ナノインプリント技術を用いた半導体デバイスの量産に向けた取り組みが、大きく加速します。 キヤノングローバル