Semi conductor | Tokio X'press - Part 51

京大：SiC-MOSFETの電子移動度を倍増：20年ぶりに大幅向上（動画）：　 Kyoto Univ: Doubled electron mobility of SiC-MOSFET：　京都大学：SiC-MOSFET的电子迁移率翻倍：20年来首次显着提高

2020年09月15日By Tokio X'press Semi conductor, Diode

ＡＧＣ：露光用フォトマスクブランクス：供給体制大幅増強（動画）：　 AGC to Make Drastic Expansion to Supply System for EUVL Mask Blanks：　 AGC将大幅扩展EUVL面罩毛坯的供应系统

2020年07月31日By Tokio X'press Semi conductor, Diode

中国半導体：最新EUV露光装置の調達リスク：SMICは3世代遅れ（動画）：　 China: Procurement risk of EUV exposure equipment: delayed by 3 gens：　中国半导体：先进EUV曝光设备的采购风险：中芯国际推迟了三代

2020年07月30日By Tokio X'press LSI, EUV, Semi conductor, Diode

DNP：5nm対応フォトマスクプロセス開発：EUVリソグラフィ向け（動画）：　 DNP Develops Photomask Process Targeting 5nm EUV Lithography：　 DNP：开发了5nm兼容的光掩模工艺：用于EUV光刻

2020年07月21日By Tokio X'press Semi conductor, Diode

三菱電機：SiC-MOSFET・回路シミュレーション：新SPICEモデル（動画）：　 Mitsubishi Electric: SiC-MOSFET/Circuit Simulation: New SPICE model：　 SiC-MOSFET结构的剖面图来源：三菱电机

2020年07月16日By Tokio X'press Semi conductor, Diode

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