キヤノンのNIL：EUVより低コストで微細化 Canon’s NIL: Miniaturization at a lower cost than EUV 佳能的NIL：比EUV成本更低的小型化 2024年10月01日By Tokio X'press EUV, Semi conductor 中国の先進技術：半導体性能が急速進化 China’s advanced tech: Evolution of semiconductor performance 中國先進技術：半導體性能快速演進 < 2024年02月19日By Tokio X'press EUV, Semi conductor <
米当局：ＡＳＭＬに中国向け出荷停止を要請 US government: Requests ASML to suspend shipments to China 美國政府：要求ASML暫停向中國出貨 < 2024年01月07日By Tokio X'press TRADE, EUV <
キヤノン：5nm半導体露光装置を発売 Canon: Launch of 5nm semiconductor exposure equipment 佳能：推出5nm半導體曝光設備 < 2023年10月17日By Tokio X'press EUV, memory, Semi conductor <
日本のチップ製造：23品目中国禁輸の衝撃 Japan: Embargoes 23 semiconductor items from China 日本：對來自中國的23種半導體產品實施禁運 < 2023年10月16日By Tokio X'press TRADE, EUV, Semi conductor <
