日本加強半導體出口管制:瞄準高性能製造設備! 05/29/23 MondayBy Tokio X'press Procurement, TRADE, EUV, Semi conductor 經濟產業大臣西村康俊 日本加強半導體出口管制:瞄準高性能製造設備! ー7月23日起施行的部令修正案ー 路透社/東京,摘自 5 月 23 日發表的一篇文章 日本經濟產業省: 公告稱,《修訂高性能半導體製造設備出口管制部令》將於7月23日起施行。 除了防止軍事轉移的目的外,還考慮到有關國家的最新趨勢,增加了23個新項目。 https://jp.reuters.com/article/chip-meti-idJPKBN2XE08A 23項半導體製造設備受出口管制! 對日本企業會有什麼影響? 』 根據 newswitch 評論: 經濟產業省對23種半導體製造設備新實施出口管制。 新增電路線寬14納米以下邏輯半導體製造設備。 美國尋求日本和荷蘭的合作。 然而,經濟產業大臣西村康俊說:“這並不是針對特定國家的事情。” https://newswitch.jp/p/36483 日經新聞以通俗易懂的方式組織了關於“23 項出口管制更嚴格的半導體製造設備”的艱難省令修訂提案。 日經交叉技術(xTECH): 加入出口管制的原因是 “如果高性能半導體用於軍事目的,國際維和行動將受到阻礙。”(西村康俊) 這23項是什麼產品? 公開徵求意見的修正案是法定文件。 因此,閱讀起來非常困難,也很難掌握全貌(圖1)。 Nikkei Crosstech 破譯了這份文件。 涵蓋的九個項目如下。 “光掩模保護膜(pellicle)製造設備”〉 “薄膜” “曝光裝置” “塗佈機(光掩模塗佈裝置)” 《沉積設備》《蝕刻設備》 《退火(熱處理)設備》 《清掃器》 “光掩模檢查系統” 原來是上面的(圖2) 部長條例的修訂版披露了要涵蓋的其他項目。 徵求意見至4月29日,該法定於同年7月施行。 https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/column/18/01537/00767/ More from tokioX : 中國先進技術:半導體性能快速演進 佳能:推出5nm半導體曝光設備 半導體:製造設備的最新份額: 日本:半导体制造设备和材料(前处理):份额排名 日本半导体:高性能材料和半导体制造设备:Disco、东京大香 中国:受美国压力无法进口:ASML半导体制造设备 日本:世界半导体制造排名:材料和设备技术的重要性 Post navigation 小松:研發氫燃料電池挖掘機!韓國上市公司:5家企業中就有1家是殭屍!