DNP：纳米压印光刻：支持 5nm 节点
-无需传统光刻技术的开发过程-
大日本印刷 (DNP)：
参加“第12届高性能材料周”（2021年12月8-10日，幕张展览馆）。
介绍减少环境影响的例子，例如碳中和。
-展出 DNP 纳米压印光刻 (NIL)-
无碳社会技术：
DNP纳米压印光刻技术是一种用于半导体制造的超精细加工技术。
什么是零：
“通过压在基板材料上以纳米为单位转移超细不规则性的技术”。
它基于“电路图案模板（板部分）技术”。
2003年
该公司于 2003 年开始开发 NIL。
2015年
2015年开始量产NIL。
2021年
该公司、佳能和铠侠已经合作，使“将该技术应用于半导体制造中的精细图案形成”成为可能。
DNP：
我们提供迄今为止所培养的“电路图案的模板制造技术”。
佳能：
负责“详细转移的压印装置技术”到电路图案板上。
铠侠：
负责基板上图案的“精密加工半导体制造技术”。
5nm节点工艺支持：
该技术“与 5nm 节点代半导体制造工艺兼容”。
DNP的零：
“传统光刻技术中使用的开发过程”变得没有必要。
“制造过程中的显着低功耗”是可能的。
这有助于半导体制造中的碳中和。
日经交叉技术 (xTECH)
https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/news/18/11907/
大日本印刷、铠侠、佳能共同开发的“NIL”
-半导体制造功耗是1/10-
大日本印刷
铠侠控股，
佳能，
正在联合开发的纳米压印光刻 (NIL)
NIL 的半导体制造：
澄清“与EUV曝光相比，功耗可降低至1/10”。
NIL在量产前存在诸多问题，但目前已成功形成最先进的电路线宽。
什么是零：
NIL 将模具压在晶片上以形成精细的电路图案。
NIL 用于技术开发，最多可处理 5 纳米节点电路线宽。
功耗为1/10
Dai Nippon Printing 于 2021 年春季根据设备的规格进行了内部模拟。
公布的电路形成过程中每片晶圆的功耗。
发现“与使用EUV曝光的情况相比，可以减少到1/10”。
新开关