USHIO：使用EUV大规模生产半导体："极紫外光刻"光源技术

USHIO：使用EUV大规模生产半导体：“极紫外光刻”光源技术

潮：

供应网络正在准备使用EUV大规模生产半导体
掩膜检测设备的光源，预计在2019财年销售30亿日元
在下一代半导体制造不可或缺的检测设备的光源事业，我们的目标是在2020财年实现盈利

用于掩模检查设备的光源的批量生产。

我们的光源：体积小，亮度高

我们的光源非常出色，因为它体积小，亮度高。

今年7月，第一批光源交付给检验设备制造商进行批量生产。

电路线宽度的小型化是提高半导体性能的关键。

销售前景：面罩检测设备的光源

面罩检查设备的光源占USHIO销售额的20％。

它定位于光学设备业务，预计在2019财年销售30亿日元。

采用EUV技术的下一代半导体：

以下公司正致力于使用EUV技术大规模生产下一代半导体。

三星电子在韩国
台湾产品线制造（台积电）
美国英特尔
日本制造商：

日本制造商在半导体生产中失去了份额。

然而，我们在“重要材料和相关设备开发”方面保持了较高的全球市场份额，这对半导体制造至关重要。

在EUV领域，JSR和东京Ohka Kogyo正在生产用于电路烘烤的抗蚀剂。
只有HOYA和AGC生产掩模空白，这是掩模的基础。
Lasertec的检测设备市场占据主导地位。

Bloomberg