RIKEN：高分辨率X射线成像探测器 – 分辨200纳米结构

RIKEN：高分辨率X射线成像探测器 – 分辨200纳米结构

高亮度研究中心（JASRI）

RIKEN辐射科学研究中心

上岛化学工业

我们已经成功开发出一种可以分辨200纳米（十亿分之一米）结构的高分辨率X射线成像探测器。

该X射线成像探测器具有世界上最高的分辨率，使您能够获得前所未有的高分辨率X射线图像。

SPring-8主页：

开发能够分辨200nm结构的高分辨率X射线成像探测器

– 实现电子设备的无损检测 – SPring-8网站

X射线成像探测器：

凭借世界上最高的分辨率，您可以获得前所未有的高分辨率X射线图像。

如果您想获得高分辨率的X射线图像，

在用薄膜闪烁体[1]将X射线转换成可见光之后，使用了用透镜进行放大和成像的方法。

然而，到目前为止，500纳米的结构和分辨率已被认为是极限。

研究组：

我们专注于将X射线转换为可见光后的成像过程，旨在显着提高分辨率。

特别是，我们开发了一种透明的5微米（μm，μm是百万分之一米）的薄膜闪烁体，没有粘合层，大大提高了光学特性。

结果，我们实现了200nm的分辨率，这接近X射线成像的理论极限。

此外，利用这种性能，我们成功地在超大规模集成电路（VLSI）器件内成像了300纳米宽的互连。

它是世界上第一个以“非破坏性和实用图像质量”“可视化”VLSI内部精细布线的产品。

这次结果：

新开发的X射线图像检测器可以轻松获得高分辨率的荧光图像。

除了SPring-8 [2]大型辐射设施外，在使用小型X射线源的电子设备的非破坏性检查领域中预期实际应用。

该研究发表在美国科学杂志“光学快报”（3月15日）上。

此外，它还被选为该杂志的编辑选择。