兵库県立大学：日本唯一的EUV光刻设备：同步辐射NewSUBARU

兵库県立大学：日本唯一的EUV光刻设备：同步辐射NewSUBARU

-新酒吧的新注射器，性能提高-

-为下一代半导体微加工技术做出贡献-

兵库県立大学：

兵库県立大学的中型同步辐射装置NewSUBARU

NewSUBARU中已安装了新的进样器。

向媒体发布：

兵库県立大学新闻栏

自2000年以来，NewSUBARU

包括用于下一代半导体的微细加工技术
从事智能手机骨干设备的开发，
它有助于加快视频处理功能并降低制造成本。

新的喷油器：

它建于去年，旨在改善NewSUBARU的复杂性。

经过三个月的调整后，该功能将从本月20日起开始提供。

同步加速器辐射强度提高20％：

使用该注入器将使发射光的强度增加20％。

“我们现在能够有效地解决公司方面的高级问题。”

兵库県立大学：

将来，我想在NewSUBARU克服世界上日本半导体技术霸权的问题。

（Sun TV）–Yahoo！新闻

兵库県立大学：新安装了新酒吧的喷油器，供媒体预览

影响：

兵库県立大学拥有的中型同步加速器辐射设施NewSUBARU（于2000年1月开始运行）

瑞肯：

大型辐射设施“ SPring-8”，
带有X射线自由电子激光设备“ SACLA”
它是位于同一地点的中型同步加速器辐射设施，并具有互补关系。
它也是日本大学拥有的最大的同步加速器辐射设施。

新斯巴鲁：

它替代了SPring-8传统上提供的电子束。

SPring-8加速器团队促进了专用电子束发生器（事件）的维护。

这次，新喷油器的维护已经完成，并且测试运行已经完成。

在公司全面使用之前，我们为媒体进行了预览。

NewSUBARU概述：

NewSUBARU擅长的软X射线场。
适用于以碳等轻元素为中心的材料开发和加工。
迄今为止日本具有全球优势的地区

特别是，

开发下一代半导体材料和设备，
下一代锂离子电池的电极材料
在下一代金属微细加工领域
我们为工业界的研究和发展做出了贡献。

极紫外光刻技术（EUVL）：

适用于下一代半导体微加工技术的极限UV光刻（EUVL）

EUVL用于制造智能手机的CPU。

从2020年开始，它已成为半导体电路小型化必不可少的技术。

这种微细加工技术是减小半导体芯片的电路线宽的技术。

性能改进，例如加快视频处理功能，

它有助于降低功耗并降低制造成本。

NewSUBARU：关于设施使用的重要通知