东京理科大学：高性能磁性材料的人工制造 – 下一代自旋电子器件
开发了脉冲激光沉积设备的精确控制和高性能磁性材料L10 – FeNi的开发技术。
随着稀缺资源的枯竭和能源问题日益严重，需要实现低环境负荷的高性能磁性材料。
“L10型FeNi有序合金（L10 – FeNi）”
它具有特殊的结构，其中铁（Fe）和镍（Ni）在原子尺度上规则排列。
它具有优异的磁性，称为磁矩和磁各向异性。
研究组：
已经进行了天然陨石的分析和电子自旋态的分析。
在该研究中，着眼于脉冲激光沉积方法，进行了L10-FeNi的人工创建。
脉冲激光沉积方法的特征在于能够以原子层尺度产生几乎理想的薄膜。
通过这项研究，该研究小组首次证明了脉冲激光沉积对于制造L10-FeNi是有用的。
L10 – FeNi
它显示出无稀土高磁功能。
应用包括下一代自旋电子设备和用于电动汽车的高效电机。
作为一种新的环境能源技术，我们可以期待各种社会发展。
物性分析：
SPring-8：使用’BL 46 XU’进行X射线结构分析
超导量子干涉磁强计：东京大学物理特性研究所，
原子力显微镜：科学大学
它是用执行。
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